Çinli Langdao Silex, Şanghay’daki Çin Uluslararası Endüstri Fuarı’nda EUV ışık kaynağı prototipini sergiledi. Fuardaki prototipe ilişkin haber, şirket temsilcilerinin bileşenlerin yüzde 90’ı için yerli tedarik bilgisi verdiğini aktarıyor. Ancak söz konusu cihaz, EUV litografi sisteminin tamamını oluşturmuyor. Şirketin fuardaki çalışanları, ışık kaynağını seri üretime taşımak için üç ila beş yıl daha gerektiğini belirtiyor.
Üreticinin resmî ürün sayfası, düşük güçlü sistemi FlintNano LPP-OXXO adıyla listeliyor. Bu sayfada şirket, sürücü lazer gücünü 1.000 W, EUV çıkışını ise 15 W’ın üzerinde veriyor. Dolayısıyla iki rakam farklı ölçümleri anlatıyor. Lazerin gücünü doğrudan çip desenini oluşturmak için kullanılan EUV ışığının çıkış gücü olarak okumamak gerekiyor.
Langdao Silex, teknik tabloda lazerin çalışma frekansını 1 ile 20 kHz arasında gösteriyor. Bunun yanında dönüşüm veriminin yüzde 2’yi aştığını ve sürekli çalışma süresinin 100 saatin üzerine çıktığını söylüyor. Bunlar üreticinin kendi ürün değerleri. Mevcut açıklama, bağımsız bir kuruluşun gerçekleştirdiği kabul testi veya seri üretim hattındaki performans ölçümü sunmuyor.
İLGİNİZİ ÇEKEBİLİR
Perseverance, 45,22 kilometreyle Dünya dışındaki sürüş rekorunu kırdı
Araştırmacılar panel temizleyen robotlara 6.200 görüntülük veri seti sundu
Artık saniye 20 Mayıs 2027’de küresel saatten çıkıyor
Sakarya’daki kümes araştırmasında ısı pompası kömüre göre daha düşük maliyet gösterdi
Godox A2, telefona 93 gramlık xenon flaş ve LED ışık ekliyor
Ürün sayfası, düşük güçlü FlintNano-LPP serisinin ürünleştirme aşamasına geçtiğini belirtiyor. Öte yandan yüksek güçlü FlintMicro-LPP serisi için daha farklı bir geliştirme seviyesi tanımlıyor. Şirket bu serinin çalışma ilkesini doğruladığını ifade ediyor, böylece kendi ürün ailesinde de bütün modellerin aynı olgunluğa ulaştığını söylemiyor.
Langdao Silex düşük güçlü kaynak ile yüksek güçlü geliştirmeyi ayırıyor
ASML’nin teknik açıklaması, EUV litografide 13,5 nanometre dalga boyunda ışık kullandığını anlatıyor. Üretim sürecinde bu ışık, çip desenini ışığa duyarlı bir katman üzerine aktarmaya yardımcı oluyor. Bunun yanında tam bir litografi sistemi, ışığı toplayıp yönlendiren optik elemanlara ve silikon plakayı hassas biçimde konumlandıran bölümlere de ihtiyaç duyuyor. Bu nedenle ışık kaynağı ile bütün pozlama makinesi farklı geliştirme aşamalarını temsil ediyor.
Langdao Silex’in ekibi, Tsinghua Üniversitesi’nin gaz deşarj plazması araştırmalarından yararlanıyor. Üretici, EUV ışık kaynaklarının yanında yüksek güçlü karbondioksit lazerleri ve plazma benzetim yazılımı üzerinde de çalıştığını açıklıyor. Bu ürünler aynı duyurudaki tek bir çıkış gücüyle tanımlanmıyor, şirket her bölüm için ayrı ürün ve geliştirme bilgileri veriyor.
FlintNano tanıtımında kontrol ve elektrik kabinleri, lazer bileşenleri ile ışık kaynağının vakum sistemi birlikte yer alıyor. Şirketin tablosu plazma boyutunu 60 mikrometre, plazma kararlılığını yüzde 3 RMS, güç kararlılığını ise yüzde 5 olarak veriyor. Öte yandan fuardaki ekip, seri üretime geçiş için açıkladığı üç ila beş yıllık süre içinde geliştirmeyi sürdürmeyi planlıyor.
Günün Öne Çıkan Fırsatları
REKLAM — Bu içerikte satış ortaklığı bağlantıları bulunmaktadır. Bu bağlantılar üzerinden yapılan alışverişlerden Teknoblog komisyon kazanabilir. Satış ortaklığı açıklaması
